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光纖光譜儀的行業(yè)應(yīng)用-儀器百科

更新更新時(shí)間:2025-10-11 點(diǎn)擊次數(shù):360
  光纖光譜儀憑借快速、非接觸、高靈敏度的特性,在多個(gè)行業(yè)中發(fā)揮關(guān)鍵作用,其應(yīng)用場(chǎng)景呈現(xiàn)多元化特點(diǎn):?
    
  科研與實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域是核心應(yīng)用場(chǎng)景。它可用于光致發(fā)光光譜分析、激光誘導(dǎo)擊穿光譜(LIBS)研究,以及太陽(yáng)能電池材料的光吸收特性測(cè)試,如鈣鈦礦 / 硅異質(zhì)結(jié)電池的性能評(píng)估。在化學(xué)與生物研究中,能實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué),通過(guò)熒光光譜分析生物分子結(jié)構(gòu),為新材料研發(fā)提供數(shù)據(jù)支撐。?
 
  工業(yè)質(zhì)量控制中,光纖光譜儀實(shí)現(xiàn)全流程監(jiān)控。食品飲料行業(yè)通過(guò)近紅外光譜快速檢測(cè)成分,如某化工企業(yè)采用 SGM1700 型號(hào)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)液體成分,使產(chǎn)品合格率提升 15% 以上;制藥領(lǐng)域則利用其追蹤藥物合成反應(yīng),精準(zhǔn)控制活性成分含量;冶金行業(yè)通過(guò)元素分析確保金屬材料純度,等離子體監(jiān)控優(yōu)化冶煉工藝。?
 
  環(huán)境監(jiān)測(cè)方面,其遠(yuǎn)程探測(cè)能力備受青睞。水質(zhì)檢測(cè)中,融合紫外 - 可見(jiàn)與熒光光譜可快速測(cè)定 COD、TOC 等指標(biāo);大氣分析中,通過(guò)光纖探頭識(shí)別工業(yè)廢氣中的 VOCs 成分。搭配無(wú)人機(jī)的高光譜成像系統(tǒng),還能實(shí)現(xiàn)大范圍土壤污染與生態(tài)評(píng)估。?
 
  生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用展現(xiàn)獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。采用表面增強(qiáng)拉曼散射(SERS)技術(shù),可無(wú)創(chuàng)檢測(cè)皮膚癌組織;對(duì)新生兒黃疸進(jìn)行膽紅素濃度實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),避免傳統(tǒng)采血風(fēng)險(xiǎn)。在臨床診斷中,能快速分析血液中的血紅蛋白等指標(biāo),輔助疾病篩查。?
 
  文物鑒定與農(nóng)業(yè)是新興應(yīng)用方向。通過(guò)分析物質(zhì)光譜 “指紋”,鑒別文物材質(zhì)與年代;農(nóng)業(yè)領(lǐng)域則利用高光譜技術(shù)評(píng)估作物長(zhǎng)勢(shì),檢測(cè)農(nóng)藥殘留,為精準(zhǔn)種植提供依據(jù)。此外,在光伏系統(tǒng)中,可監(jiān)測(cè)組件積塵與老化狀態(tài),優(yōu)化發(fā)電效率。?
 
  這些應(yīng)用均依托其模塊化設(shè)計(jì)與寬波段覆蓋能力,適配從實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)的多樣化需求。

美國(guó)SlarNet小型光纖光譜儀Blue系列技術(shù)規(guī)格

 

動(dòng)態(tài)范圍: 2000:1 with 6 decades 光譜分辨率: 見(jiàn)下表
探測(cè)器類(lèi)型: CCD, 2k/3k pixels 功率: < 100 mA via USB port
像素尺寸: 14 x 200um or 7 x 200um 積分時(shí)間: 1ms to 65s
衍射光柵: Holographic & Ruled 狹縫尺寸: 14, 25, 50, 100, 200um
光柵刻劃線(xiàn) g/mm: 300, 600,1200,1800, 2400 雜散光: <.1% at 435nm;<.05% at 600nm
光譜平臺(tái): f/4, SymX-Czerny–Turner 光纖輸入: SMA905 0.22na single fiber
重量: 14 ounces 軟件: SpectraWiz program & apps
標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)
BLUE-Wave系列光譜儀           2048 像素 CCD/PDA 探測(cè)器               狹縫類(lèi)型決定分辨率
型號(hào) 波長(zhǎng)范圍(nm) 光柵g/mm Slit-200

nm res.

Slit-100

nm res.

Slit-50

nm res.

Slit-25

nm res.

Slit-14

nm res.

UV 200-600 1200 3.0 1.6 0.8 0.50 0.40
UV2 200-400 2400 1.5 0.8 0.4 0.25 0.20
UV3 220-350 3600 1.0 0.5 0.25 0.16 0.13
UVIS 300-1100 600 6.0 3.2 1.6 1.00 0.80
VIS 350-1150 600 6.0 3.2 1.6 1.00 0.80
VIS2 380-780 1200 3.0 1.6 0.8 0.50 0.40
NIR 500-1150 600 6.0 3.2 1.6 1.00 0.80
NIR2 600-1000 1200 3.0 1.6 0.8 0.50 0.40
NIR2b 785-1150 1200 3.0 1.6 0.8 0.50 0.40
NIR3 550-840 1800 2.2 1.2 0.6 0.35 0.28
NIR3b 680-935 1800 2.2 1.2 0.6 0.35 0.28
NIR4 500-700 2400 1.5 0.8 0.4 0.25 0.20
NIR4b 600-800 2400 1.5 0.8 0.4 0.25 0.20
UVN 250-1100 600 6.0 3.2 1.6 1.00 0.80
UVNb 200-1050 600 6.0 3.2 1.6 1.00 0.80


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